ATRON® SP 200 là chất rửa bề mặt gốc nước, được phát triển để tẩy rửa, vệ sinh flux cứng khỏi thiết bị lò Reflow, Wave soldering SMT như : Pallet, khung hàn và Condensation Trap.

ATRON® SP 200 cũng có thể sử dụng để loại bỏ kem hàn khỏi mặt nạ hàn (metal mask/ stencil). Sản phẩm phù hợp với thiết bị Ultrasonic, phun trợ khí và Spray in air.

Atron SP200 khi pha với nước ở tỉ lệ 15% có giá phù hợp để thay thế cồn công nghiệp (IPA).

Ứng Dụng

• Rửa Wave Pallet
• Rửa thiết bị lò Reflow

Ưu điểm so với chất tẩy rửa khác:

• Đơn giản, dễ sử dụng
• Thời gian sử dụng dài hơn từ 3 đến 10 lần so với chất tẩy rửa bề mặt truyền thống
• Thích hợp với bề mặt nhôm và epoxy
• Không cần sử dụng thiết bị khử bọt
• Không tích tụ chất hữu cơ trong quy trình xả

Hướng Dẫn Sử Dụng:

1. Pha với nước ở tỉ lệ 15-20% vào bể rửa
2. Bỏ vật rửa vào bể rửa.
3. Gia nhiệt dung dịch ở nhiệt độ 45-55 độ C
4. Bật rung siêu âm (nếu có) trong 20 phút.
5. Lấy vật rửa ra xả lại với nước và lau khô

Kết Quả